本站 10 月 9 日消息,asml 新任 ceo 傅恪礼(christophe fouquet)出席 spie 大会并发表演讲,重点介绍了 high na euv 光刻机。他提到,high na euv 光刻机不太可能像最初的 euv 光刻机那样出现延迟。傅恪礼还谈到了组装扫描仪子组件的新方法,即直接在客户工厂安装,无需经历拆卸及再组装的过程。这将大大节省 asml 与客户之间的时间和成本,有助于加快 high na euv 光刻机的发的和交付。紧随其后上台的是英特尔院士兼光刻总监 mark phillips,他表示英特尔已经在波特兰工厂完成了两台 high na 光刻系统的安装,而且他还公布了一些资料,表明 high na euv 相对于标准 euv 光刻机所带来的改进可能要比之前想象中还要多。

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