天眼查显示,华海清科股份有限公司近日取得一项名为“一种化学机械抛光系统及抛光方法”的专利,授权公告号为cn115194640b,授权公告日为2024年10月18日,申请日为2022年8月15日。
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本发明公开了一种化学机械抛光系统及其抛光方法,该系统包括:
- 前置单元
- 抛光单元
- 清洗单元,位于前置单元和抛光单元之间
清洗单元包括:
- 第一清洗单元
- 第二清洗单元,垂直层叠设置在第一清洗单元上方
第一和第二清洗单元均包括:
- 晶圆传输机械手
- 多个晶圆后处理装置,围绕晶圆传输机械手布置









