北京北方华创微电子装备有限公司近日公布一项名为“一种腔室清洁方法及半导体工艺设备”的新专利(申请公布号:cn119050039a,申请公布日:2024年11月29日)。
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该专利提出了一种创新的腔室清洁方法。当工艺腔室内的静电卡盘达到电荷清洁触发条件时,系统会先获取挡板的当前状态,再根据挡板状态和腔室目标状态判断是否满足挡板移出条件。满足条件后,系统会自动控制挡板移出腔室,并在腔室状态达到目标状态时执行电荷清洁,中和静电卡盘上的残余电荷。 此方法实现了挡板的自动移出和电荷清洁的自动化,显著提高了清洁效率,降低了人力成本,并有效避免了挡板对清洁效果的干扰,确保了清洁的彻底性。
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