针对台积电对其前高层罗唯仁提起诉讼一事，英特尔执行长陈立武已作出明确回应。他在一封发送给全体员工的内部备忘录中表示，英特尔“全力支持”罗唯仁重返公司，并强调目前所知的所有信息均显示相关指控“毫无依据”。
陈立武指出，罗唯仁博士曾长期在英特尔服务达18年，专注于晶圆製程技术的研发，之后才转赴台积电任职，如今是回到熟悉的工作环境。他特别澄清，此次人事变动并非挖角，而是旧将回归。
同时，英特尔重申其一贯立场：公司严格执行合规政策，绝不允许任何第三方机密资料或智慧财产权的非法使用或转移。
尽管台积电担忧关键技术外洩，可能影响其在先进製程领域的领先地位，但业界分析认为，英特尔与台积电在技术路径上存在显著差异。
英特尔正在推进其18A及更先进製程，采用独有的PowerVia背部供电技术与RibbonFET（环绕式闸极电晶体架构），并与ASML合作率先导入高数值孔径EUV（High-NA EUV）设备。相较之下，台积电尚未大规模部署High-NA EUV，且其GAA技术发展节奏不同。
这意味着即便有人员流动，技术直接复制的可能性极低。反观罗唯仁在产业链中的深厚经验，尤其是在理解美国客户对晶圆代工服务的需求方面，可能才是英特尔最看重的部分。
因此，专家推测，罗唯仁带来的最大价值或在于强化英特尔代工部门（Intel Foundry）对全球供应链运作的理解，而非技术层面的“捷径”。
这场围绕人才、技术与商业机密的争议，已跃升为半导体产业两大巨头之间的高度博弈，后续法律进展与产业反应将持续牵动全球晶片格局。
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