euv和duv区别:1、duv基本上只能做到25nm,而euv能满足10nm以下的晶圆权制造;2、duv主要利用光的折射原理,而euv利用的光的反射原理,内部必须为真空操作。

本文操作环境:Windows7系统,Dell G3电脑。
euv和duv区别:
1、制程范围不同
duv:基本上只能做到25nm,Intel凭借双工作台的模式做到了10nm,却无法达到10nm以下。
euv:能满足10nm以下的晶圆权制造,并且还可以向5nm、3nm继续延伸。
2、发光原理不同
duv:光源为准分子激光,光源的波长能达到193纳米。
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euv:激光激发等离子来发射EUV光子,光源的波长则为13.5纳米。
3、光路系统不同
duv:主要利用光的折射原理。其中,浸没式光刻机会在投影透镜与晶圆之间,填入去离子水,使得193nm的光波等效至134nm。
euv:利用的光的反射原理,内部必须为真空操作。
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