三星计划增加进口更多asml极紫外（euv）光刻设备，这是根据韩国今日电子新闻的报道
尽管合同中的保密条款没有透露具体细节，但根据证券市场的消息，这项协议将使得ASML在五年内提供总共50套设备，每台设备的单价约为2000亿韩元（约合11.02亿元人民币），总价值可达10万亿韩元（约合551亿元人民币）
目前尚不清楚其合同中的产品是现有 EUV 光刻设备还是下一代“High NA EUV”光刻设备。不过，目前 EUV 光刻设备最大的问题是产量有限。据官方介绍，它“比卫星部件还复杂”，每年只能生产很有限的数量。据说去年是 40 台，今年 ASML 估计是 60 台。而目前需要且能购买到 EUV 光刻设备的厂商有五家：三星电子、台积电、英特尔、SK 海力士和美光。其中，台积电约占供应量的 70%，剩下四家公司争夺剩下的 30%。
三星电子于去年 6 月推出了全球首个采用全栅极（GAA）技术的 3nm 代工技术，因此该公司一直在努力确保采购更多 EUV 光刻设备，目标是在明年上半年进入 3nm 世代的第二代工艺，在 2025 年进入 2nm 工艺，在 2027 年进入 1.4nm 工艺。
因此，李在镕董事长去年六月前往ASML总部，与首席执行官Peter Bennink讨论了EUV采购问题。在去年十一月访问韩国期间，他与Bennink进一步会谈。考虑到EUV的交付周期至少需要一年，这些会议似乎取得了实际成果
实际上，半导体领域分析师也对三星电子增购 EUV 光刻设备的计划持积极态度。
祥明大学系统半导体工程教授李钟焕表示：“三星已经引进了数十台EUV光刻设备，据说每台设备的成本约为2000亿韩元，这表明该公司有意扩大3nm芯片的量产，并计划在未来实现2nm的生产。”
三星电子之前宣布计划到2025年拥有100台EUV光刻机。市场估计目前三星拥有约40台EUV机器。如果这50台设备能够如期交付，那么到2028年，三星将能够拥有约100台设备
荷兰应用科学研究所（TNO）的韩国代表朴炳勋解释道：“一般情况下，半导体工艺可以将每台机器的10%用于工艺研发和测试，拥有100台机器意味着它们可以全天候用于研发。”
他还指出，“通过这样做，我们将能够确保有足够的工艺能力来正确使用设备”，他补充说，“ 预计这将减少工艺过程中的时间和成本，并提高产量。”
“一旦我们拥有了大量的（EUV）设备，并且技术趋于稳定，我们将能够提高产量，并在代工方面取得进展” ，工业研究所的专家研究员金阳邦（Kim Yang-pang）说。
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