合肥芯碁微电子装备股份有限公司近日公布一项关于“曝光总成及具有其的光刻设备”的专利(申请公布号:cn119126500a,申请公布日:2024年10月13日)。
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该专利公开了一种新型曝光总成及其应用于光刻设备的方案。该曝光总成包含光源、分束器、承载件和检测设备。分束器与光源相对放置,其设计能够将经过的光线分解并导向至不同方向;承载件则与分束器相对放置,用于承载工件;检测设备同样与分束器相对放置,位于分束器背离承载件的一侧。光线经分束器后进入检测设备,进行传感分析。
专利技术亮点在于,通过在曝光总成中集成分束器,实现对光线的反射和分解,使检测设备能够检测承载件反射的光线,从而实时监测和反馈曝光总成的使用情况。系统根据检测结果调整曝光性能,确保曝光总成在使用过程中始终满足当前需求,最终提升曝光效果和效率。
以上就是芯碁微装“曝光总成及具有其的光刻设备”专利公布的详细内容,更多请关注php中文网其它相关文章!
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