6 月 27 日消息,asml 技术高级副总裁 jos benschop 在接受《日经亚洲》采访时透露,公司已与光学组件独家合作伙伴蔡司共同启动了面向 5nm 分辨率的 hyper na 光刻机研发工作。
目前使用的 TWINSCAN EXE:5000 光刻系统搭载 High NA(0.55NA)光学系统,分辨率为 8nm。更高的分辨率将有助于先进制程厂商减少曝光步骤,并提升光刻图案的精度。
Jos Benschop 表示,ASML 尚未为 Hyper NA 光刻设备设定明确的发布时间,但该项目的目标是进一步将 NA(数值孔径)提升至 0.7 或更高水平;实现 5nm 分辨率意味着 Hyper NA 系统将能支撑到 2035 年甚至更远的产业发展需求。
针对当前刚刚开始部署的 High NA 图案化设备,这位 ASML 高管指出,其大规模应用仍需时日,因为整个行业需要时间进行测试、验证并构建相应的生态系统;0.55NA 的光刻设备预计能够满足本十年内直至三十年代初期的产业需求。
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