20周年iPhone看点汇总：史上最激进的苹果手机

10月28日消息，据媒体报道，苹果计划在2027年发布的新款iphone将跳过“iphone 19”的命名，直接以“iphone 20”亮相，以此纪念iphone诞生20周年这一重要节点。

这一命名策略让人联想到2017年的iPhone X——当时苹果同样跳过了iPhone 9，推出了iPhone 8与全面屏旗舰iPhone X。尽管距离这款20周年特别版机型的发布还有两年时间，但已有不少关于其设计与配置的爆料浮出水面，具体信息如下。

曲面无边框屏幕或将实现

长久以来，苹果一直致力于打造一款“通体如玻璃般完整”的智能手机，彻底取消开孔与边框。据最新消息，这一设想有望在2027年成为现实。

据悉，苹果正在研发采用曲面OLED屏幕的新机，通过边缘弯曲的设计营造出真正的无边框视觉体验。虽然三星曾在Galaxy系列中广泛使用曲面屏，但近年来已逐步放弃该方案。若苹果最终引入曲面设计，或将重新定义高端手机的外观形态。

屏下Face ID和前置摄像头技术成焦点

要实现全屏无开孔的设计，必须移除现有的灵动岛和前置摄像头挖孔。目前关于这项技术能否在2027年落地仍存在争议。

知名显示屏分析师Ross Young指出，苹果可能无法在该机型上实现屏下Face ID。然而，也有其他可靠爆料人认为该技术具备可行性。如果部分组件难以完全隐藏于屏幕之下，苹果可能会采取折中方案：即保留一个极小的前置摄像头开孔，同时实现Face ID模组的屏下集成。

新一代OLED屏幕：更亮、更薄、更低功耗

为提升显示效果，苹果将为这款纪念机型配备升级版OLED面板，采用由三星开发的COE（Color Filter on Encapsulation）技术。该工艺可去除传统OLED中的偏光层，并将滤色片直接集成在封装层上。

这不仅有助于大幅缩减屏幕整体厚度，还能提高透光率，从而增强亮度并降低能耗。不过，取消偏光片可能导致反光问题加剧。对此，苹果已在当前机型中应用了新型抗反射涂层，预计未来将进一步优化此技术以应对挑战。

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影像系统再进化：定制HDR传感器+可变光圈延续升级

在拍照性能方面，苹果正计划引入定制化的高动态范围（HDR）图像传感器。此前消息称，iPhone 18系列将首次搭载可变光圈镜头，而到了20周年机型，这项技术有望进一步升级。

新一代传感器或将支持单帧内同时捕捉高光与阴影细节，显著提升照片的层次感与真实感，尤其在逆光或高对比场景下表现更为出色。

全面转向自研调制解调器

目前，苹果仅在iPhone 16e和iPhone Air中试用了自研的C1与C1X基带芯片。但从2027年开始，公司计划将自研调制解调器推广至全系产品线。

届时，作为里程碑产品的iPhone 20很可能成为首款全面搭载高性能自研基带的机型。得益于软硬件深度整合的优势，苹果自研芯片在能效方面已显著优于高通方案。据内部目标，到2027年，其自研调制解调器将在数据速率、AI处理能力和续航优化等方面全面超越高通同类产品。

A系列芯片迭代：或配第二代2纳米A21芯片

传闻iPhone 18将首发基于2纳米工艺打造的A20芯片，性能更强且更加节能。而作为后续机型，20周年版iPhone则有望搭载更先进的第二代2纳米工艺芯片——A21。

尽管台积电已在推进1.4纳米制程的研发，但预计最早2028年才能投入量产，因此2027年发布的机型仍将基于2纳米改进版工艺打造，确保性能与功耗之间的最佳平衡。

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