11月3日资讯，euv工艺已成为5nm节点之后不可或缺的关键技术。目前全球仅荷兰asml能够制造euv光刻机，而在euv光刻胶领域，日本则展现出强大优势。面向2nm及更先进制程，日本三大化工巨头正加速产能扩张。
东京应化工业（Tokyo Ohka Kogyo）近日宣布，将投资200亿日元（约1.3亿美元）在韩国平泽建设一座光刻胶生产基地，计划于2030年投入运营。
平泽聚集了三星、SK海力士等主要半导体制造商，是全球重要的芯片生产中心。新工厂建成后，东京应化的韩国产能预计将提升三至四倍，显著增强其本地供应能力，以更好响应客户需求。
此外，该公司还将在韩国追加120亿日元投资，兴建一座高纯度化学品工厂，服务于先进半导体制造工艺。这一系列动作被解读为日本材料企业提前卡位2nm及以下节点的战略布局。
与此同时，另一家EUV光刻胶领军企业JSR也已启动在韩国的MOR型光刻胶工厂建设，预计将于明年年底前实现量产。
而百年化学企业Adeka（阿德卡）则选择在日本本土扩产，投入32亿日元建设MOR型光刻胶生产线，目标在2028年4月开始批量生产。
MOR型光刻胶基于金属氧化物体系，专为应对EUV光刻的高精度需求而设计，目前我国也在积极推进MOR光刻胶的研发与产业化进程。
尽管日本本土尚无2nm晶圆代工产线，但其在半导体材料领域长期占据全球超91%的市场份额。通过积极布局海外生产基地，日本企业正全力抢占未来先进制程的关键材料高地。
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