全球晶圆代工领域的两大巨头——台积电与英特尔,近日因一名前员工的跳槽而陷入了一场激烈的“窃密”风波。台积电已正式提起诉讼,指控其前资深副总经理罗唯仁,在违反保密协议与竞业禁止义务后,涉嫌将2nm等先进制程的关键机密泄露给了新东家英特尔。

台积电在诉讼声明中详细披露了其指控。罗唯仁在台积电工作期间,曾主导了EUV光刻技术的导入,是核心技术高管。然而,法务部门调查发现,他在离开研发管理岗位后,仍多次要求研发团队提供先进制程的机密资料。更关键的是,罗唯仁在离职面谈时明确表示将前往学术机构任职,但仅三个月后,他便以执行副总裁的身份出现在了英特尔的员工名单中。
台积电方面坚称,“这些营业秘密可能已被转移至英特尔,其行为同时违反了竞业禁止协议。”
面对台积电的指控,英特尔方面连续两日作出了强势回应。英特尔CEO陈立武在公开场合直接反驳称,相关指控是“毫无根据的谣言”,并强调英特尔拥有严格的政策,禁止使用任何第三方的知识产权。
随后,英特尔的发言人进一步从技术层面进行了解释。他指出,英特尔即将量产的18A制程,采用的是与台积电2nm工艺路线存在本质差异的RibbonFET晶体管与背面供电技术,“无需借助任何外部的技术数据”。此外,英特尔还是高数值孔径极紫外光刻(High-NA EUV)技术的早期采用者,而台积电目前尚未布局该技术。
在业内人士看来,这场“窃密”风波的背后,实则是一场关乎未来的激烈技术赛跑。当前,正值英特尔业务发展的战略关键期,其最新宣布已在美国工厂启动大规模量产的Intel 18A工艺,被外界视为是这家美国芯片巨头打破台积电技术垄断的核心抓手。若英特尔无法在未来一到两年内,将18A制程的良率提升至商业化水平,其技术优势将被竞争对手的成熟产能所吞噬。因此,招揽像罗唯仁这样经验丰富的行业泰斗,其核心目的正是为了加速技术的落地,本质上是在与时间赛跑。
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