本站 9 月 6 日消息，asml 首席执行官 peter wennink 近日在接受路透社采访时表示，尽管供应商出现了一些阻碍，但公司仍会按照此前设定的计划，在今年年底之前交付 high na euv 机器。
ASML 表示一台高数值孔径 EUV 光刻（High-NA EUV）设备的体积和卡车相当，每台设备的售价超过 3 亿美元（本站备注：当前约 21.9 亿元人民币），可以满足一线芯片制造商的需求，可以在未来十年内制造更小、更好的芯片。
Wennink 表示部分供应商无法提高组件的数量和质量，因此导致了轻微的延误，但整体而言这些困难都可以控制，承诺会在今年年底之前交付首台机器。
本站此前报道，对于后 3nm 时代，ASML 及其合作伙伴正在开发一种全新的 EUV 光刻机 ——Twinscan EXE:5000 系列，该系列机器将具有 0.55 NA（高 NA）的透镜，分辨率达 8nm，从而在 3 nm 及以上节点中尽可能地避免双重或是多重曝光。
相关阅读：
《ASML 分享 High-NA EUV 光刻机最新进展：目标 2024-2025 年进厂》
广告声明：文内含有的对外跳转链接（包括不限于超链接、二维码、口令等形式），用于传递更多信息，节省甄选时间，结果仅供参考，本站所有文章均包含本声明。
以上就是ASML CEO 承诺年底前交付首台 High-NA EUV 光刻机：体积和卡车相当，每台售价 3 亿美元的详细内容，更多请关注php中文网其它相关文章！
每个人都需要一台速度更快、更稳定的 PC。随着时间的推移，垃圾文件、旧注册表数据和不必要的后台进程会占用资源并降低性能。幸运的是，许多工具可以让 Windows 保持平稳运行。
广告![ThinkPHP5快速开发企业站点[全程实录]](https://img.php.cn/upload/course/000/000/068/6253d918a3ce7278.png)
收藏
收藏
Copyright 2014-2025 https://www.php.cn/ All Rights Reserved | php.cn | 湘ICP备2023035733号
218
